Intel plant den Bau einer neuen Halbleiterfabrik mit 300 mm großen Wafern an seinem Standort in Kiryat Gat, Israel. Die neue Fabrik mit dem Namen Fab 28 soll Intels Vorsprung bei der Herstellungstechnik weiter ausbauen und Prozessoren auf Basis der 45 nm Prozesstechnik ab der zweiten Jahreshälfte 2008 produzieren, so das Unternehmen. Das 3,5 Milliarden US-Dollar teure Projekt, Intels zweite 45 nm Fabrik, soll sofort starten.
Nach Fertigstellung wird Fab 28 Intels siebte 300 mm Fabrik sein und ca. 18.500 m² Reinraumfläche haben. Während der nächsten Jahre schafft das Projekt mehr als 2.000 Arbeitsplätze am Standort. Die israelische Regierung gibt finanzielle Unterstützung. Intels 45 nm Technik, die zuerst in der Massenfertigung in Fab 32 zum Einsatz kommen wird, erlaubt den Bau von Chip-Schaltungen mit etwa der halben Größe im Vergleich zur aktuellen 90 nm Halbleiterprozesstechnik.