Auf dem International Electron Device Meeting (IEDM) präsentierten IBM und AMD Details zum Einsatz von Immersionslithographie, Ultra-Low-k-Interconnect-Dielektrika und mehrerer verbesserter Transistor-Strain-Verfahren in der Herstellung der 45 nm-Mikroprozessor-Generation. AMD und IBM rechnen für Mitte 2008 mit der Verfügbarkeit der ersten 45 nm-Produkte, die unter Verwendung dieser Prozesse gefertigt werden.
In der aktuellen Prozesstechnologie wird konventionelle Lithographie genutzt, die zu erheblichen Einschränkungen bei Designs jenseits der 65 nm-Prozesstechnologie-Generation führt. "Bei der Immersionslithographie wird der Raum zwischen dem Projektionsobjektiv des Stepper-Lithographiesystems und dem Wafer mit einer transparenten Flüssigkeit gefüllt. Diese wichtige Verbesserung des Lithographieprozesses ermöglicht eine erhöhte Tiefenschärfe und eine verbesserte Bildpräzision, die einen Beitrag zur Verbesserung der Performance auf Chip-Ebene und der Fertigungseffizienz leisten kann", sagt Dr. Hans Deppe, Corporate Vice President und Geschäftsführer von AMDs Fertigungsstandort in Dresden. Mit dieser Immersions-Technik verschaffen sich AMD und IBM Produktionsvorteile gegenüber Mitbewerbern, so die beiden Unternehmen in der heutigen Pressemitteilung. Beispielsweise wird die Performance einer SRAM-Zelle um circa 15 Prozent aufgrund dieses verbesserten Prozesses erhöht, ohne dass kostenaufwändigere Doppelbelichtungsverfahren erforderlich sind.
Darüber hinaus ist die Verwendung von porösen Ultra-Low-k-Dieleketrika zur Reduzierung der Interconnect-Kapazität und der Leitungsverzögerung ein kritischer Schritt zur weiteren Verbesserung der Performance und zur Verringerung der Verlustleistung von Prozessoren. Dieser Fortschritt wird durch die Entwicklung einer branchenführenden Ultra-Low-k-Prozessintegration ermöglicht, die die dielektrische Konstante der Interconnect-Dielektrik reduziert und gleichzeitig die mechanische Festigkeit wahrt. Darüber hinaus ermöglicht der Ultra-Low-k-Interconnet eine Reduzierung der leitungsbezogenen Verzögerung um 15 Prozent im Vergleich zu konventionellen Low-k-Dielektrika.
Die ständige Verbesserung der Transistor-Strain-Techniken hat die laufende Erhöhung der Transistorleistung ermöglicht, während gleichzeitig die geometriebezogenen Skalierungsprobleme im Zusammenhang mit der Umstellung auf 45 nm-Prozesstechnologien umgangen werden. Trotz der erhöhten Packungsdichte der Transistoren der nächsten Generation haben IBM und AMD eine 80-prozentige Steigerung des Ansteuerungsstroms des P-Kanal-Transistors und eine 24-prozentige Erhöhung des Ansteuerungsstroms des N-Kanal-Transistors im Vergleich zu nicht verspannten Transistoren nachgewiesen. Dieser Fortschritt führt zur höchsten bislang dokumentierten CMOS-Performance bei 45 nm.
Mit mehr als 30 Messehallen sowie mehreren Sonderflächen füllt die IFA 2022 das traditionsreiche Messegelände im Zentrum Berlins. Dabei wird...
Mit der ROG Strix SQ7 stellt ASUS eine neue interne M.2 PCIe Gen4 x4 NVMe SSD vor. Die Strix SQ7...
Der Schock sitzt tief ‒ man wollte nur noch eben seine Mails, Social-Media oder gar seinen Kontostand checken und stellt...
Viper gibt die Verfügbarkeit der neuen VENOM RGB- und Non-RGB-DDR5-Speicherkits mit 6.200 MHz bekannt. Die Venom DDR5-Module kommen wahlweise in...
HyperX, die Gaming-Sparte von HP, kündigt heute die Veröffentlichung der HyperX Cloud MIX Buds für Multiplattform-Gaming und einen digitalen Lifestyle...
Mit der GeForce RTX 3090 Ti AMP Extreme Holo bietet Hersteller ZOTAC eine wuchtige Grafikkarte mit 3,5-Slot-Kühler und AMP HoloBlack Design an. In unserem Praxistest erfahren Sie mehr über den Boliden.
Mit der GeForce RTX 3090 Ti EX Gamer (1-Click OC) von KFA2 haben wir heute einen weiteren Boliden mit GA102-350-GPU im Test. Was die Karte mit Overclocking ab Werk leisten kann, lesen Sie in unserem ausführlichen Test.
Mit der SPC Gear GK650K Omnis Pudding Edition bietet Hersteller SilentiumPC eine mechanische Tastatur an. Wir haben das Modell mit taktilen Omnis-Kailh-Schaltern (Brown) in der Praxis auf Herz und Nieren geprüft.
Mit den Modellen NITRO+ und PULSE von Sapphire, haben wir heute zwei RX 6700 XT Grafikkarten im Custom-Design auf dem Prüfstand. Wie sich die beiden Mittelklasse-Probanden schlagen, lesen Sie hier.